Het 3-inch SGGG epitaxiale substraat is de gangbare specificatie voor massaproductie van Faraday rotatoren in de optische communicatie-industrie. Met een diameter van 76,2 mm, een standaard dikte van 630 ± 30 µm en (111) oriëntatie, maakt het gebruik van in-house gegroeide grote SGGG enkristallen. Precisie-verwerkt en EPI-kwaliteit supergladde polijsting, bereikt het een Ra ≤ 1 nm, een dislocatiedichtheid ≤ 10 cm⁻², en een TTV ≤ 6 µm, klaar voor batch LPE groei van BIG/Bi:YIG magneto-optische films.
Het product beschikt over een primaire platte kant ([-110]) en een secundaire platte kant ([-1-12]) voor nauwkeurige uitlijning in epitaxieapparatuur en daaropvolgende zaagprocessen. Elke batch ondergaat een volledige parameterinspectie, inclusief roosterconstante, oriëntatie, aantal deeltjes op het oppervlak en doorbuiging, wat zorgt voor een hoge consistentie. Het is de kosteneffectieve keuze voor massaproductie van Faraday rotatoren voor 400G/800G optische module isolators en circulators.
Belangrijkste Functies
BIG/YIG film LPE epitaxie:
Nauwkeurig afgestemde roosterconstante met bismutijzergranaat films, zorgt voor uniformiteit van de epitaxiale laag en magneto-optische prestaties
Substraat voor massaproductie van Faraday rotatoren:
3-inch is de huidige gangbare maat voor de productie van rotatoren voor optische communicatie, wat resulteert in tientallen tot honderden rotatorchips per wafer
Kern upstream van isolators/circulators:
De rotatorchip is het "hart" van optische isolators; SGGG substraat is de fundering ervan
Typische Toepassingen
400G/800G optische module isolators
Massaproductie van Faraday rotatorchips
BIG/Bi:YIG magneto-optische film LPE
Optische circulators en schakelaars
Onderdrukking van ASE-ruis in glasvezelversterkers
Magneto-optische sensoren en stroomtransformatoren
Het 3-inch SGGG epitaxiale substraat is de gangbare specificatie voor massaproductie van Faraday rotatoren in de optische communicatie-industrie. Met een diameter van 76,2 mm, een standaard dikte van 630 ± 30 µm en (111) oriëntatie, maakt het gebruik van in-house gegroeide grote SGGG enkristallen. Precisie-verwerkt en EPI-kwaliteit supergladde polijsting, bereikt het een Ra ≤ 1 nm, een dislocatiedichtheid ≤ 10 cm⁻², en een TTV ≤ 6 µm, klaar voor batch LPE groei van BIG/Bi:YIG magneto-optische films.
Het product beschikt over een primaire platte kant ([-110]) en een secundaire platte kant ([-1-12]) voor nauwkeurige uitlijning in epitaxieapparatuur en daaropvolgende zaagprocessen. Elke batch ondergaat een volledige parameterinspectie, inclusief roosterconstante, oriëntatie, aantal deeltjes op het oppervlak en doorbuiging, wat zorgt voor een hoge consistentie. Het is de kosteneffectieve keuze voor massaproductie van Faraday rotatoren voor 400G/800G optische module isolators en circulators.
Belangrijkste Functies
BIG/YIG film LPE epitaxie:
Nauwkeurig afgestemde roosterconstante met bismutijzergranaat films, zorgt voor uniformiteit van de epitaxiale laag en magneto-optische prestaties
Substraat voor massaproductie van Faraday rotatoren:
3-inch is de huidige gangbare maat voor de productie van rotatoren voor optische communicatie, wat resulteert in tientallen tot honderden rotatorchips per wafer
Kern upstream van isolators/circulators:
De rotatorchip is het "hart" van optische isolators; SGGG substraat is de fundering ervan
Typische Toepassingen
400G/800G optische module isolators
Massaproductie van Faraday rotatorchips
BIG/Bi:YIG magneto-optische film LPE
Optische circulators en schakelaars
Onderdrukking van ASE-ruis in glasvezelversterkers
Magneto-optische sensoren en stroomtransformatoren